该过程专用于去除工艺气体中的 O2、H2、CO 或碳氢化合物。 另外，我们的特种工艺还可用于去除 CO2 或甲醇。

催化
使用贵金属催化剂净化工艺气体，比如去除 O2、H2、CO 和碳氢化合物。
正常进入浓度 0.01 ...2%。残余量低于 1 ppmv。气体容量可达15万 Nm³/h，操作压力 1 ...250 巴。

 

化学吸附
使用铜触点净化工艺气体，比如去除 O2、H2 或 CO。通过铜触点的氧化和减少进行净化，从而确保净化工艺气体中不含反应气体。净化气体中的 O2 和 H2 残余量低于1 ppmv。

 

其他
通过分子筛吸附去除污染物，例如空气中的 CO2，CO2中的甲醇，或者借助浸渍活性炭，例如 CO2 中的 H²S，或工艺气体中的汞。